半導体分野の企業の皆様へ
当社の「DualPore™（デュアルポア）」は特殊な立体構造の新素材（特許取得済）です。その最初の実用例の「DualPore™シリカ」は、「貫通孔＋細孔」の２段階の孔で流体力学的性能を高めています。
DualPore™シリカは99.999％の高純度で、DualPore™のユニークさに加えて、当社では独自技術により各種のリガンドを表面修飾することで様々なアプリケーションに柔軟に対応しています。
パラジウムを始め各種重金属イオンを根こそぎ吸着するうえ、そのユニークな構造から、回収フローサイクル中のスカベンジャーカートリッジが極めて低い流体抵抗であるため、回収フローサイクルにおいて運転圧力の低い大変使いやすい製品となっています。ユースポイントにおける半導体洗浄液中の金属類の除去や、半導体材料の高純度化への適用等を目指しており、ぜひご要望をお知らせください。
事例・応用例
- 事例・応用例 電子制御用プリント基板メッキ洗浄槽からのパラジウム回収
- 事例・応用例 電子制御用プリント基板メッキ槽からのパラジウム回収
